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近日，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)龍頭阿斯麥（ASML Holding NV）宣布德國柏林廠有某一處失火，分析人士認(rèn)為，這意味著極紫外光（EUV）微影設(shè)備供需可能失衡。
阿斯麥1月3日發(fā)布新聞稿宣布，柏林廠火勢已于昨晚撲滅、幸無人員受傷。該公司稱，對外公布損失金額、意外是否影響今年產(chǎn)出的時(shí)機(jī)尚未成熟，要花上幾天進(jìn)行徹底調(diào)查及完整評估。只要評估出爐，ASML會立刻對外更新消息。
ASML柏林廠主要制造微影系統(tǒng)需要的零組件，當(dāng)中包括晶圓固定工作臺、晶圓夾具、光罩吸盤、反射鏡等。ASML在2020年并購德商Berliner Glas。
以上就是英銳恩單片機(jī)開發(fā)工程師分享的“阿斯麥工廠發(fā)生火災(zāi) EUV光刻設(shè)備供需可能失衡”。英銳恩專注單片機(jī)應(yīng)用方案設(shè)計(jì)與開發(fā)，提供8位單片機(jī)、16位單片機(jī)、32位單片機(jī)。
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